濺射中性粒子質(zhì)譜儀 參考價:面議
MAXIM 二次離子濺射中性粒子質(zhì)譜儀可分析二次陰高品質、陽離子動態(tài)和中性粒子,所具備的的30°接受角可形成樣品粒子平面,應(yīng)用于SIMS和SNMS的光學(xué)采樣...二次離子質(zhì)譜儀 參考價:面議
二次離子質(zhì)譜儀適合做多層薄膜的深度分析,可以做元素成像和混合模式掃描結構,自動測量正共創美好、負(fù)和中性粒子精準調控。飛行時間二次離子質(zhì)譜儀 參考價:面議
Hiden TOF-qSIMS 飛行時間二次離子質(zhì)譜儀工作站設(shè)計用于多種材料的表面分析和深度剖析應(yīng)用技術交流,包括聚合物便利性,藥物結構重塑,超導(dǎo)體聽得懂,半導(dǎo)體,合金高質量發展,光學(xué)和功能涂層以及...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)